【芯动能】国产光刻胶研发情况

发布网友 发布时间：2024-09-09 15:35

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国家对于集成电路产业高度关注，光刻胶作为核心材料受到重点支持。光刻技术在芯片制造流程中起着至关重要的作用，然而，我国在光刻机制造技术上仍处于实验室研发阶段，依赖进口。光刻胶作为光刻工艺的关键配套材料，市场庞大且需求持续增长。全球芯片需求上升为光刻胶材料提供了弯道超车的机会，特别是EUV及KrF光刻胶的市场需求显著增加。

然而，光刻胶市场被国际供应商垄断。全球主要竞争格局由日本TOK、日本Shin-Etsu、日本JSR、日本Sumitomo、美国杜邦等企业组成。IC用光刻胶中，EUV及KrF光刻胶增长趋势显著，g/i线光刻胶的市场空间趋于饱和，市场需求结构正在发生调整。全球光刻胶市场规模预计在2025年达到24.66亿美元，其中中国市场的增长速度为国际市场的两倍。

自2016年起，国内光刻胶产业开始快速发展，专利数量大幅增加，表明国内光刻胶技术研究体系正在形成。然而，光刻胶研发面临着验证周期长、光刻机资源有限的挑战，主要依赖进口，国内光刻胶市场面临进口替代的机会。

光刻工艺中光源波长的降低对光刻胶感光灵敏度提出了更高要求。随着技术的不断发展，光源波长从汞灯到准分子激光器再到激光等离子体，波长逐渐减小，所使用的光刻技术从微米级发展到纳米级。光刻胶的配方也随着光源波长的变化而调整，包括紫外宽谱、g线、i线、KrF、ArF、EUV、电子束等主要品类。

在光源波长降低的背景下，光刻胶研发面临着一系列技术难题。g/i线光刻胶适用于传统制程，而DUV波长的缩短则推动了KrF光刻胶的化学放大技术发展。面对EUV、电子束和X射线等最新光刻技术，光刻胶配方需要做出相应调整。然而，国内光刻胶研发仍面临树脂材料国产供应不足的挑战。

国际竞争格局中，东京应化、信越化学、JSR等企业占据领先地位。东京应化在光刻胶领域产品线齐全，覆盖从g线到EUV光刻胶。信越化学在全球市场排名第二，尤其是在KrF光刻胶方面表现出色。JSR通过收购初创企业实现无机光刻胶创新，而Samsung则成功突破日本材料封锁，自研EUV光刻胶，缓解了对日本的依赖。

国内IC光刻胶市场主要由彤程新材、晶瑞电材、华懋科技、上海新阳、南大光电等企业构成。这些企业通过自主研发及收购光刻胶研发企业，尝试完成研发布局，其中彤程新材、晶瑞电材、华懋科技等企业已在不同光刻胶领域取得进展，如彤程新材正在客户验证248nm光刻胶，晶瑞电材的KrF光刻胶已完成中试等。

对于未来投资机会，国内光刻胶产业正迎来新的发展机遇。投资者应关注技术突破、研发进展及市场动态，特别是在EUV、X射线等先进光刻技术领域。同时，关注国内光刻胶企业与国际市场的合作与竞争，以及扶持与市场需求的双重推动，有望在光刻胶领域找到新的投资机会。